如何去除硅膠制品的靜電和表面防塵問題?要生產(chǎn)出令客戶滿意的硅橡膠制品，表面處理工藝非常重要;除了打印之外，還需要做好防塵工作。由于硅膠含有靜電，這使得產(chǎn)品容易吸附灰塵、雜質(zhì)和頭發(fā)。今天源興興與大家分享一下如何去除硅膠產(chǎn)品的靜電和表面防塵問題。

　　理論上，硅膠制品表面有氧原子，帶有負電極和靜電，而灰塵顆粒帶有正電極。因此，灰塵顆粒與硅膠靜電表面會相互吸引，使表面灰塵難以清潔，影響產(chǎn)品外觀。針對硅膠制品表面易揚塵的問題，硅膠制品廠致力于研究解決方案，發(fā)現(xiàn)采用等離子表面改性技術(shù)可以提高性能。最后，等離子體輔助化學(xué)氣相沉積(PECVD)技術(shù)達到優(yōu)化產(chǎn)品表面性質(zhì)的效果。

　　受靜電影響，一般硅膠制品容易沾上灰塵。如果廠家采用傳統(tǒng)的化學(xué)涂層方式，防塵潤滑涂層只能維持幾個月;一個好的方法是用等離子體能量對硅膠表面的氧原子進行改性。將負極硅膠產(chǎn)品表面改為正極，過程中使用無害的有機化學(xué)品，不會排放污染廢物，是一種清潔生產(chǎn)工藝。具有低靜電、高防塵效果的特點；適用于表帶等，也可用于醫(yī)療器械。

　　等離子表面處理技術(shù)適用于纖維、聚合物和塑料等材料。也可用于金屬、塑料、陶瓷材料表面部分的清洗、活化和蝕刻，改變材料表面的物理特性;硅膠制品經(jīng)過防塵處理和環(huán)保技術(shù)，可有效解決硅膠靜電易積塵問題，延長產(chǎn)品使用壽命。它是一種硅膠表面處理工藝。適用于所有硅膠及相關(guān)產(chǎn)品。

　　高能脈沖等離子磁控濺射技術(shù)(HPPMS)是一種結(jié)合“高能”和“脈沖”兩大特點的新型磁控濺射系統(tǒng)。在鍍膜過程中，電源起著重要的作用。采用“高能”和“脈沖式”放電方式，可在不到2微秒的短時間內(nèi)，釋放出高達1500V輸出電壓的強大能量，猶如閃電。由于在此過程中釋放出大量離子，消除了涂層的內(nèi)應(yīng)力，因此可以在不損壞產(chǎn)品或工件表面的情況下制成較厚的離子涂層。這種方法可以提高電離率，即提高涂層在產(chǎn)品表面的附著力。

　　高能脈沖等離子磁控濺射技術(shù)可以超越傳統(tǒng)的磁控濺射方法，產(chǎn)生3μm以上的高質(zhì)量厚離子鍍層;由于高能脈沖法有利于增加離子密度，不僅加強了涂層與基體的接合力，亦可減低表面粗糙度，在功能性部件上可進一步增強耐磨性能及減少替換次數(shù)。

　　對于裝飾性很強的硅膠制品來說，可以保持外觀，更耐用;因此，高能脈沖涂層可以有效地利用等離子體來控制涂層的結(jié)構(gòu);其特點是可以沉積在光滑致密的微觀結(jié)構(gòu)上。提高耐腐蝕性和表面光潔度;或者它可以沉積在復(fù)雜的幾何工件上，以獲得更均勻的涂層。